硬脂酸鉀研磨分散機,硬脂酸鐵研磨分散機、硬脂酸鈣研磨分散機、硬脂酸鈉研磨分散機、*研磨分散機、硬脂酸鉛研磨分散機、硬脂酸鋁研磨分散機、硬脂酸鋅研磨分散機，硬脂酸鹽研磨分散機  

IKN研磨分散機設(shè)計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。

硬脂酸鉀為白色粉末，可溶于熱水或醇，溶液因水解呈堿性，作為陰離子型表面活性劑，廣泛用于丙烯酸酯橡膠皂/硫磺并用硫化體系。 陰離子型表面活性劑。通常被稱為鉀肥皂或軟肥皂，主要用用于膏霜類和香波類化妝品，作為乳化劑和洗滌劑。具有很高的乳化效率，但對硬水敏感，能與硬水生成鈣皂，使乳狀液變型或破壞，是一種鈣敏乳化劑，因此在化妝品生產(chǎn)過程中應(yīng)加以注意。

硬脂酸鐵研磨粉碎機 

因為好多物料單用一種膠體磨或分散機是無法達到客戶所要求的理想粒徑要求已經(jīng)分散效果要求。IKN客戶在IKN實驗室實驗室做完實驗后經(jīng)常會遇到這樣的痛苦，物料已經(jīng)用N多種國產(chǎn)研磨設(shè)備處理過了，達不到效果，zui后放下國產(chǎn)設(shè)備的價格優(yōu)勢找到中德合作的IKN，雖然IKN研磨分散設(shè)備制造精密，但也不是*的，有些物料例如硬脂酸鐵還有茶葉鮮葉還是不能處理到客戶理想要求（硬脂酸鐵處理到2-3μm，茶葉鮮葉處理到200目），在客戶要求IKN重新做處理方案時，IKN研發(fā)工程師協(xié)同客戶一起研發(fā)出了研磨分散機，IKN公司總為研磨分散機定型號為CMD2000系列。研磨分散機的研制，成功解決了原有設(shè)備粒徑處理不理想的問題。

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總體上來說其實是將膠體磨跟分散乳化機合二為一，在一臺設(shè)備上完成了兩臺設(shè)備聯(lián)合運行才能達到的效果。IKN研磨分散機開機轉(zhuǎn)速跟IKN膠體磨已經(jīng)IKN三級高剪切乳化機一樣，都可以達到9000rpm，經(jīng)變頻后轉(zhuǎn)速亦可升至14000rpm。

CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成，工作時，物料通過投料口進入分散腔，首先到達層分散頭進行處理，由于馬達帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn)，產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭，然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用，之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強力剪切間隙中物料被強烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切，接著流出的物料進入第二層分散頭腔體，對處理過的物料再次進行剪切（原理同上），從而確保混合分散獲得很窄的粒徑分布，獲得更小的液滴和顆粒，生成的混合液穩(wěn)定性更好，滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

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