DKF10-MH型 痕量級多組份氣體分析儀
痕量級雜質氣體比如烴類、H2O、CO、CO2、NOx、N2、H2S等會對高純氦、高純氫、高純氮、其他高純氣體以及烯烴類氣體的生產帶來危害，會損壞生產設備和影響生產質量，甚至對使用這些氣體的裝備帶來致命威脅。杜克泰克公司與芬蘭干涉公司合作研發的DKF10-MH型痕量級多組份氣體分析儀專門專業監測并分析ppm微量級、ppb超微量級雜質氣體。
概述DKF10-MH型 痕量級多組份氣體分析儀
痕量級雜質氣體比如烴類、H2O、CO、CO2、NOx、N2、H2S等會對高純氦、高純氫、高純氮、其他高純氣體以及烯烴類氣體的生產帶來危害，會損壞生產設備和影響生產質量，甚至對使用這些氣體的裝備帶來致命威脅。杜克泰克公司與芬蘭干涉公司合作研發的DKF10-MH型痕量級多組份氣體分析儀專門專業監測并分析ppm微量級、ppb超微量級雜質氣體。
原理DKF10-MH型 痕量級多組份氣體分析儀
DKF10-MH痕量級多組份氣體分析儀基于紅外光聲光譜技術，擁有脈沖紅外光源，通過窄帶光學濾波片，形成中紅外區10個光譜波段，用于氣體分析；超高靈敏度基于的擁有增強懸臂梁光學麥克風技術，可通過10種光學窄帶濾波片實現，極窄的光學濾波可去除背景氣體的干擾；多個光譜區域可有利于小的交叉靈敏度。對采樣響應結果按照改進的經典小二乘法進行數據校準。
光聲光譜技術可實現短光路光程的高靈敏度測量，更進一步提高了非線性補償技術，可實現寬量程可達5級的線性動態量程比。
氣體：
烴類：CH4、C2H6、C2H2、C2H4等
無機氣體： CO2、CO、N2O、SO2、NO、NO2, NH3、NF3、SF6、H2O等
揮發性有機物VOCs：丙酮、乙醇、甲醇、苯、 甲苯、二、甲醛等
氟利昂（CFCs）及 全氟化碳（PFCs）: CF4、 C2F6、R-134a、R13等
腐蝕性氣體：HF、HCL、HCN等
麻醉劑：*、*、*、安氟醚等；
其他氣體：N2、H2、O2、氯氣等（可選、擴展探頭）；
被測氣體可定制；
