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等離子 昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝發(fā)展前景-中大型PLC

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30000

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)等離子
  • 品牌Siemens/西門(mén)子
  • 所在地蘇州市
  • 更新時(shí)間2019-09-24
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 所在地區(qū)蘇州市
  • 實(shí)名認(rèn)證已認(rèn)證
  • 產(chǎn)品數(shù)量112
  • 人氣值5637
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昆山國(guó)華電子科技有限公司是一家集等離子技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售和推廣于一體的高科技公司:秉承“服務(wù)創(chuàng)造價(jià)值、技術(shù)成就未來(lái)”的宗旨,為客戶提供表面處理領(lǐng)域的整體解決方案。

      公司由多名*從事等離子體技術(shù)應(yīng)用研究,設(shè)備制造和銷(xiāo)售的業(yè)內(nèi)人事創(chuàng)建。核心技術(shù)發(fā)展于歐洲,同時(shí)充分借鑒歐美的*技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)的資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的高性能的等離子體處理系統(tǒng)。集團(tuán)合作團(tuán)隊(duì)包括 EUROPLASMA、PSM等,應(yīng)用領(lǐng)域涉及電子、光電、汽車(chē)、塑膠、紡織、生物、醫(yī)療、化工、日用品及家電等行業(yè)。

      公司成立以來(lái)已為眾多企業(yè)、大學(xué)院校、研究機(jī)構(gòu)提供等離子體處理設(shè)備和解決方案。售前可免費(fèi)提供試樣和方案認(rèn)證,以竭誠(chéng)服務(wù)各領(lǐng)域科研項(xiàng)目為公司的宗旨。

      我們倡導(dǎo)技術(shù)創(chuàng)新,充分發(fā)揮新技術(shù)在企業(yè)經(jīng)營(yíng)中的主導(dǎo)作用,以滿足客戶的個(gè)性化需求為己任,為客戶提供與等離子處理系統(tǒng)相關(guān)技術(shù)的支持與服務(wù),致力于成為*的行業(yè)*!

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昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝發(fā)展前景:
等離子噴涂是一種材料表面強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、隔熱、防輻射、減磨和密封等性能。 等離子噴等離子噴涂技術(shù)是繼火焰噴涂之后大力發(fā)展起來(lái)的一種新型多用途的精密?chē)娡糠椒ǎ哂?
①超高溫特性,便于進(jìn)行高熔點(diǎn)材料的噴涂。
②噴射粒子的速度高,涂層致密,粘結(jié)強(qiáng)度高。
③由于使用惰性氣體作為工作氣體,所以噴涂材料不易氧化。
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昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝發(fā)展前景

等離子噴涂是一種材料表面強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、隔熱、防輻射、減磨和密封等性能。 等離子噴涂技術(shù)是采用由直流電驅(qū)動(dòng)的等離子電弧作為熱源,將陶瓷、合金、金屬等材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并以高速噴向經(jīng)過(guò)預(yù)處理的工件表面而形成附著牢固的表面層的方法。 等離子噴涂亦有用于醫(yī)療用途,在人造骨骼表面噴涂一層數(shù)十微米的涂層,作為強(qiáng)化人造骨骼及加強(qiáng)其親和力的方法。

      等離子的形成:

 

 

(以N2為例):

0°k時(shí),N2分子的兩個(gè)原子呈啞鈴形,僅在x,y,z方向上平動(dòng);

大于10°k時(shí),開(kāi)始旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng);

大于10000°k時(shí),原子間產(chǎn)生振動(dòng),分子與分子間碰撞,則分子會(huì)發(fā)生離解變?yōu)閱卧?

N2+Ud-->N+N 其中 Ud為離解能

溫度再升高,原子會(huì)發(fā)生電離: N+Ui-->N++e 其中 Ui為電離能

氣體電離后,在空間不僅有原子,還有正離子和自由電子,這種狀態(tài)就叫等離子體。

等離子體可分為三大類(lèi):①高溫高壓等離子體,電離度,溫度可達(dá)幾億度,用于核聚變的研究;②低溫低壓等離子體,電離度不足1%,溫度僅為50~250度;③高溫低壓等離子體,約有1%以上的氣體被電離,具有幾萬(wàn)度的溫度。離子、自由電子、未電離的原子的動(dòng)能接近于熱平衡。熱噴涂所利用的正是這類(lèi)等離子體。

等離子噴涂?jī)?yōu)點(diǎn):

①相比較氧一乙炔火焰噴涂,等離子焰流溫度高,能量束很集中,可以熔化所有一切高硬度、高熔點(diǎn)的粉末,因此可作噴涂用材料范圍廣泛,可以用來(lái)制備多種多樣化的涂層。

②由于噴涂粒子的飛行速度可高達(dá)200-500 m/s,所以得到的涂層平整光滑、致密度高,而且粉末沉積率很高。

③噴涂過(guò)程中基體不帶電、不熔化,基體與噴槍相對(duì)移動(dòng)速度快,使得基體組織不發(fā)生變化。不會(huì)因?yàn)槭軣岫鴮?duì)基體的形狀和性能造成影響。

④工作氣體為惰性氣體,保護(hù)了基體和粉末不會(huì)受到氧化,涂層內(nèi)雜質(zhì)少。

⑤操作簡(jiǎn)單,設(shè)備維護(hù)成本低,調(diào)節(jié)性能好。

發(fā)展前景:

 

新興等離子噴涂技術(shù)

近幾年來(lái),在等離子噴涂的基礎(chǔ)上又發(fā)展了幾種新的等離子噴涂技術(shù),如:

1.真空等離子噴涂(又叫低壓等離子噴涂)

真空等離子噴涂是在氣氛可控的,4~40Kpa的密封室內(nèi)進(jìn)行噴涂的技術(shù)。

因?yàn)楣ぷ鳉怏w等離子化后,是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的,所以噴流速度是超音速的,而且非常適合于對(duì)氧化高度敏感的材料。

2.水穩(wěn)等離子噴涂

前面說(shuō)的等離子噴涂的工作介質(zhì)都是氣體,而這種方法的工作介質(zhì)不是氣而是水,它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法,其工作原理是:

噴槍內(nèi)通入高壓水流,并在槍筒內(nèi)壁形成渦流,這時(shí),在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極間產(chǎn)生直流電弧,使槍筒內(nèi)壁表面的一部分蒸發(fā)、分解,變成等離子態(tài),產(chǎn)生連續(xù)的等離子弧。由于旋轉(zhuǎn)渦流水的聚束作用,其能量密度提高,燃燒穩(wěn)定,因此,可噴涂高熔點(diǎn)材料,特別是氧化物陶瓷,噴涂效率非常高

3.氣穩(wěn)等離子噴涂

氣穩(wěn)等離子噴涂的原理是由等離子噴槍(等離子弧發(fā)生器)產(chǎn)生等離子射流(電弧焰流)。噴槍的電極(陰極)和噴嘴(陽(yáng)極)分別接整流電源的正、負(fù)極,向噴槍供給工作氣體(Ar、N2等),通過(guò)高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度,使氣體電離,在熱收縮效應(yīng)、自磁收縮效應(yīng)和機(jī)械效應(yīng)的作用下,電弧被壓縮,產(chǎn)生非轉(zhuǎn)移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后,體積迅速膨脹,形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動(dòng)粉末進(jìn)入等離子射流后,被迅速加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并將等離子射流加速,形成飛翔基材的噴涂離子束,陸續(xù)撞擊到經(jīng)預(yù)處理的基材表面,形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮?dú)狻錃庾鳛榈入x子氣。

昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝發(fā)展前景

等離子噴涂是一種材料表面強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、隔熱、防輻射、減磨和密封等性能。 等離子噴涂技術(shù)是采用由直流電驅(qū)動(dòng)的等離子電弧作為熱源,將陶瓷、合金、金屬等材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并以高速噴向經(jīng)過(guò)預(yù)處理的工件表面而形成附著牢固的表面層的方法。 等離子噴涂亦有用于醫(yī)療用途,在人造骨骼表面噴涂一層數(shù)十微米的涂層,作為強(qiáng)化人造骨骼及加強(qiáng)其親和力的方法。

      等離子的形成:

 

 

(以N2為例):

0°k時(shí),N2分子的兩個(gè)原子呈啞鈴形,僅在x,y,z方向上平動(dòng);

大于10°k時(shí),開(kāi)始旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng);

大于10000°k時(shí),原子間產(chǎn)生振動(dòng),分子與分子間碰撞,則分子會(huì)發(fā)生離解變?yōu)閱卧?

N2+Ud-->N+N 其中 Ud為離解能

溫度再升高,原子會(huì)發(fā)生電離: N+Ui-->N++e 其中 Ui為電離能

氣體電離后,在空間不僅有原子,還有正離子和自由電子,這種狀態(tài)就叫等離子體。

等離子體可分為三大類(lèi):①高溫高壓等離子體,電離度,溫度可達(dá)幾億度,用于核聚變的研究;②低溫低壓等離子體,電離度不足1%,溫度僅為50~250度;③高溫低壓等離子體,約有1%以上的氣體被電離,具有幾萬(wàn)度的溫度。離子、自由電子、未電離的原子的動(dòng)能接近于熱平衡。熱噴涂所利用的正是這類(lèi)等離子體。

等離子噴涂?jī)?yōu)點(diǎn):

①相比較氧一乙炔火焰噴涂,等離子焰流溫度高,能量束很集中,可以熔化所有一切高硬度、高熔點(diǎn)的粉末,因此可作噴涂用材料范圍廣泛,可以用來(lái)制備多種多樣化的涂層。

 

 

 

②由于噴涂粒子的飛行速度可高達(dá)200-500 m/s,所以得到的涂層平整光滑、致密度高,而且粉末沉積率很高。

③噴涂過(guò)程中基體不帶電、不熔化,基體與噴槍相對(duì)移動(dòng)速度快,使得基體組織不發(fā)生變化。不會(huì)因?yàn)槭軣岫鴮?duì)基體的形狀和性能造成影響。

④工作氣體為惰性氣體,保護(hù)了基體和粉末不會(huì)受到氧化,涂層內(nèi)雜質(zhì)少。

⑤操作簡(jiǎn)單,設(shè)備維護(hù)成本低,調(diào)節(jié)性能好。

發(fā)展前景:

 

新興等離子噴涂技術(shù)

近幾年來(lái),在等離子噴涂的基礎(chǔ)上又發(fā)展了幾種新的等離子噴涂技術(shù),如:

1.真空等離子噴涂(又叫低壓等離子噴涂)

真空等離子噴涂是在氣氛可控的,4~40Kpa的密封室內(nèi)進(jìn)行噴涂的技術(shù)。

因?yàn)楣ぷ鳉怏w等離子化后,是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的,所以噴流速度是超音速的,而且非常適合于對(duì)氧化高度敏感的材料。

2.水穩(wěn)等離子噴涂

前面說(shuō)的等離子噴涂的工作介質(zhì)都是氣體,而這種方法的工作介質(zhì)不是氣而是水,它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法,其工作原理是:

噴槍內(nèi)通入高壓水流,并在槍筒內(nèi)壁形成渦流,這時(shí),在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極間產(chǎn)生直流電弧,使槍筒內(nèi)壁表面的一部分蒸發(fā)、分解,變成等離子態(tài),產(chǎn)生連續(xù)的等離子弧。由于旋轉(zhuǎn)渦流水的聚束作用,其能量密度提高,燃燒穩(wěn)定,因此,可噴涂高熔點(diǎn)材料,特別是氧化物陶瓷,噴涂效率非常高

3.氣穩(wěn)等離子噴涂

氣穩(wěn)等離子噴涂的原理是由等離子噴槍(等離子弧發(fā)生器)產(chǎn)生等離子射流(電弧焰流)。噴槍的電極(陰極)和噴嘴(陽(yáng)極)分別接整流電源的正、負(fù)極,向噴槍供給工作氣體(Ar、N2等),通過(guò)高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度,使氣體電離,在熱收縮效應(yīng)、自磁收縮效應(yīng)和機(jī)械效應(yīng)的作用下,電弧被壓縮,產(chǎn)生非轉(zhuǎn)移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后,體積迅速膨脹,形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動(dòng)粉末進(jìn)入等離子射流后,被迅速加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并將等離子射流加速,形成飛翔基材的噴涂離子束,陸續(xù)撞擊到經(jīng)預(yù)處理的基材表面,形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮?dú)狻錃庾鳛榈入x子氣。以上就是

昆山國(guó)華電子等離子噴涂工藝發(fā)展前景

等離子噴涂是一種材料表面強(qiáng)化和表面改性的技術(shù),可以使基體表面具有耐磨、耐蝕、耐高溫氧化、電絕緣、隔熱、防輻射、減磨和密封等性能。 等離子噴涂技術(shù)是采用由直流電驅(qū)動(dòng)的等離子電弧作為熱源,將陶瓷、合金、金屬等材料加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并以高速噴向經(jīng)過(guò)預(yù)處理的工件表面而形成附著牢固的表面層的方法。 等離子噴涂亦有用于醫(yī)療用途,在人造骨骼表面噴涂一層數(shù)十微米的涂層,作為強(qiáng)化人造骨骼及加強(qiáng)其親和力的方法。

      等離子的形成:

 

 

(以N2為例):

0°k時(shí),N2分子的兩個(gè)原子呈啞鈴形,僅在x,y,z方向上平動(dòng);

大于10°k時(shí),開(kāi)始旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng);

大于10000°k時(shí),原子間產(chǎn)生振動(dòng),分子與分子間碰撞,則分子會(huì)發(fā)生離解變?yōu)閱卧?

N2+Ud-->N+N 其中 Ud為離解能

溫度再升高,原子會(huì)發(fā)生電離: N+Ui-->N++e 其中 Ui為電離能

氣體電離后,在空間不僅有原子,還有正離子和自由電子,這種狀態(tài)就叫等離子體。

等離子體可分為三大類(lèi):①高溫高壓等離子體,電離度,溫度可達(dá)幾億度,用于核聚變的研究;②低溫低壓等離子體,電離度不足1%,溫度僅為50~250度;③高溫低壓等離子體,約有1%以上的氣體被電離,具有幾萬(wàn)度的溫度。離子、自由電子、未電離的原子的動(dòng)能接近于熱平衡。熱噴涂所利用的正是這類(lèi)等離子體。

等離子噴涂?jī)?yōu)點(diǎn):

①相比較氧一乙炔火焰噴涂,等離子焰流溫度高,能量束很集中,可以熔化所有一切高硬度、高熔點(diǎn)的粉末,因此可作噴涂用材料范圍廣泛,可以用來(lái)制備多種多樣化的涂層。

 

 

 

②由于噴涂粒子的飛行速度可高達(dá)200-500 m/s,所以得到的涂層平整光滑、致密度高,而且粉末沉積率很高。

③噴涂過(guò)程中基體不帶電、不熔化,基體與噴槍相對(duì)移動(dòng)速度快,使得基體組織不發(fā)生變化。不會(huì)因?yàn)槭軣岫鴮?duì)基體的形狀和性能造成影響。

④工作氣體為惰性氣體,保護(hù)了基體和粉末不會(huì)受到氧化,涂層內(nèi)雜質(zhì)少。

⑤操作簡(jiǎn)單,設(shè)備維護(hù)成本低,調(diào)節(jié)性能好。

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新興等離子噴涂技術(shù)

近幾年來(lái),在等離子噴涂的基礎(chǔ)上又發(fā)展了幾種新的等離子噴涂技術(shù),如:

1.真空等離子噴涂(又叫低壓等離子噴涂)

真空等離子噴涂是在氣氛可控的,4~40Kpa的密封室內(nèi)進(jìn)行噴涂的技術(shù)。

因?yàn)楣ぷ鳉怏w等離子化后,是在低壓氣氛中邊膨脹體積邊噴出的,所以噴流速度是超音速的,而且非常適合于對(duì)氧化高度敏感的材料。

2.水穩(wěn)等離子噴涂

前面說(shuō)的等離子噴涂的工作介質(zhì)都是氣體,而這種方法的工作介質(zhì)不是氣而是水,它是一種高功率或高速等離子噴涂的方法,其工作原理是:

噴槍內(nèi)通入高壓水流,并在槍筒內(nèi)壁形成渦流,這時(shí),在槍體后部的陰極和槍體前部的旋轉(zhuǎn)陽(yáng)極間產(chǎn)生直流電弧,使槍筒內(nèi)壁表面的一部分蒸發(fā)、分解,變成等離子態(tài),產(chǎn)生連續(xù)的等離子弧。由于旋轉(zhuǎn)渦流水的聚束作用,其能量密度提高,燃燒穩(wěn)定,因此,可噴涂高熔點(diǎn)材料,特別是氧化物陶瓷,噴涂效率非常高

3.氣穩(wěn)等離子噴涂

氣穩(wěn)等離子噴涂的原理是由等離子噴槍(等離子弧發(fā)生器)產(chǎn)生等離子射流(電弧焰流)。噴槍的電極(陰極)和噴嘴(陽(yáng)極)分別接整流電源的正、負(fù)極,向噴槍供給工作氣體(Ar、N2等),通過(guò)高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱到很高的溫度,使氣體電離,在熱收縮效應(yīng)、自磁收縮效應(yīng)和機(jī)械效應(yīng)的作用下,電弧被壓縮,產(chǎn)生非轉(zhuǎn)移性等離子弧。高溫等離子氣體從噴嘴噴出后,體積迅速膨脹,形成高溫高速等離子射流。送分氣流推動(dòng)粉末進(jìn)入等離子射流后,被迅速加熱到熔融或半熔融狀態(tài),并將等離子射流加速,形成飛翔基材的噴涂離子束,陸續(xù)撞擊到經(jīng)預(yù)處理的基材表面,形成涂層。大氣等離子噴涂用氬氣、氮?dú)狻錃庾鳛榈入x子氣。
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