● 采用技術-積木錯位蠅眼透鏡消衍射技術和線條陡直增強技術，曝
光圖形質量好，光刻分辯力高。
● 采用創(chuàng)的CCD圖像底面對準，單曝光頭正面曝光實現(xiàn)雙面對準
功能。
● 采用新穎的高精度，多自由度掩模一樣片精密對準工件臺結構,掩模與
樣片對準過程直觀，套刻對準速度快，精度高樣片的放置采用推拉式
基準平板，真空吸附式，操作方便。
● 采用1000W長壽命型汞燈光源，曝光能量高，聚光角度小，光源穩(wěn)定，
持久。
● 支持真空接觸曝光，硬接觸曝光，壓力接觸曝光，接近式曝光四種曝光功能。
● 配備循環(huán)水冷卻系統(tǒng)，照明面溫度恒定。
● 具有納米壓印接口功能。
● 曝光面積：8英寸；對準精度：≤±2 μm（雙面,片厚0.8mm）/0.8 μm（單面）。
● 掩模尺寸：4英寸、5英寸、7英寸、9英寸。
● 光刻分辨力：1 μm。
● 曝光方式：定時（倒計時方式0.1s-9999.9s任意設定）和定劑量。
● 膠厚：500 μm（SU8膠，用戶提供檢測條件）。
● 汞燈功率：1000W（直流，進口直流高壓汞燈德國歐司朗)。
● 照明不均勻性：5%（Φ200mm 范圍）。
