三永電機制作所簡易UV曝光裝置UV-2000MT

三永電機制作所簡易UV曝光裝置UV-2000MT

簡易曝光裝置UV-2000MT  

兼容2000W金鹵燈和汞燈，兼容多種波長，是實驗和研究的理想選擇。

高精度均光UV曝光裝置：
特征:
光學設計可實現高功率和緊湊性。使用高度穩定、長壽命、無臭氧的燈管?？筛鶕眠x擇照射波長范圍。豐富的自動化生產線遠程功能。完善噪聲防治措施。照射頭可每90°更換一次。照射角度可根據用途和用途改變。
配備燈弧監視器，更換燈管時可輕松調整光軸。
用法:
UV膠應用:LCD玻璃層壓密封等,CD和DVD驅動器及電子產品光學拾取鏡頭的粘合
光致抗蝕劑應用:各種微型設備（晶體管、晶體振蕩器、引線框架等,硅晶圓的曝光光源、各種光學器件實驗性的
采用高性能積分器搭配250W至2000W超高壓汞燈，可通過準直透鏡均勻照射工作臺面的紫外光。我們有多種輻照直徑單位。我們還根據要求提供各種過濾器。廣泛用作半導體晶圓、晶體振蕩器等電子零件的曝光、掩模對準器的光源、各種光學器件和曝光測試設備。

我們的高均勻/平行光照射裝置的所有型號都配備了我們開發的光學系統有效利用燈管輸出的紫外線，并在照射表面獲得紫外線強度。 “高效雙鏡單元”，

TCC型... 通過結合高效雙鏡單元和開發的光學單元“聚光透鏡/準直鏡單元”，可以獲得高平行度和紫外線強度均勻性。

結合了高效雙鏡單元和聚光鏡/平面鏡單元的通用型。它非常適合用于簡單的太陽能模擬器、太陽能電池的性能測試和耐光測試儀。

TIC類該類型采用高效雙鏡單元、提供 ±3°（兩個角度）平行度和 ±5% 紫外線強度均勻性的積分透鏡單元以及準直鏡單元。