主要特點

1.采用4C真空泵，各方面降噪，提升實驗感受；

2.標配樣品室真空表和濺射電流表，實時顯示和監控儀器狀態；

3.邊緣橡膠密封圈，長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象。

4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結合自動控制電路，輕松控制真空室壓強、電離電流，并可任意選擇所需電離氣體，以獲得很好的鍍膜效果；

5.標配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶，濺射范圍更大；

控制面板：

真空表：真空度的計量單位mmHg或Pa相對應的刻在表盤上，可方便的讀出工作室內的真空度。

電流表：顯示濺射電流值單位(mA)。

微調閥(充氣閥)：用于向工作室內進行充氣，

試驗按鈕：配合針閥設置，以便獲得滿意的濺射電流值（小于10mA）。

濺射按鈕：當“實驗”按鈕電流小于10mA時，可以按“濺射”按鈕，對樣品進行離子濺射。

時間設定開關：控制離子濺射時間，定時開關10～110S.

電源開關：控制儀器機箱電源及機械泵的通斷。

高純石英真空腔體Φ130（內118）*130mm

樣品臺尺寸：Φ42mm

樣品臺可調高度：75mm

電氣規格

AC220V 120W

腔體尺寸

Φ130（內118）*130mm

樣品臺尺寸

Φ42mm

樣品臺可調高度

樣品臺可調高度：75mm

樣品溫度

＜35~50℃

適用靶材

貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常規金屬Cu、W、Ag 、Cr 等

濺射速度

一般來說，用于掃描樣品時金屬的厚度為100-300?,采用經驗法測定厚度，可由下面的公式得到

d = KIVT

其中： d：是鍍膜厚度(單位?)

K：是常數，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時K為0.17，金靶和空氣K為0.07)，此時靶與樣品之間的距離

I： 是等離子流(單位mA)

V：是所施電壓(單位kv)

T“”是時間(單位s)。

例如采用金靶和氬氣，l為8mA,T為100秒，V為1KV

則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?

即每秒1.36?

濺射速度依賴于濺射系統本身的清潔程度，因此保護工作室的清潔十分重要。

其它金屬靶的濺射速度，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。

設備使用注意事項

1.靶材的更換

先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭，拿下濺射蓋板，松開三只頂絲，拿下保護板，然后擰下壓環就可以更換新靶。

2.真空工作室清洗

腔體工作室用無水乙醇、丙酮清洗，以保證系統能正常工作。

3、針閥使用

針閥關閉后再反向擰兩圈，以防止針閥長時間不用出現閥針回彈不靈活的現象。如遇到打開針閥時不向工作室放氣，請將針閥鈕擰到底后再重新打開即可。

標配

1.NBD-4C真空泵； 2 金靶1只：Φ58*0.12 3.說明書一份.（可選配分子泵）

服務支持

一年保修，提供終身服務；

凈重

25KG