微電腦二氧化硅濃度測定儀

二氧化硅在溶解礦物質(zhì)的天然水體中存在。但在工業(yè)應用中卻不希望有二氧化硅的存在，因為二氧化硅會引起結(jié)垢現(xiàn)象。
特別是高壓管道中更易受二氧化硅的影響。
加熱系統(tǒng)和反滲透工廠也有必要監(jiān)測二氧化硅。

微電腦二氧化硅濃度測定儀性能：

儀器在使用一段時間后，儀器光學系統(tǒng)將會衰減，造成內(nèi)部設(shè)置的標準曲線會出現(xiàn)漂移，影響測量數(shù)據(jù)可靠性和準確性。
*CHECKTM性能核查功能，使用NIST氨氮標準核查組定期（頻繁使用，1-3個月標準核查一次，常規(guī)情況下，半年標準核查一次）對儀器進行檢查，測量值在NIST標準值范圍內(nèi)，儀器光學系統(tǒng)為，如果偏離標準值范圍較大，應該及時送檢。
NIST氨氮標準核查組，保存和使用應在18 to 25°C（64.5 to 77°F）溫度范圍內(nèi)，非Hanna 品牌NIST氨氮標準核查組，并不能確保其標準值真實性。

• 優(yōu)良的光學系統(tǒng)設(shè)計，人性化確認操作，保證儀器的良好校準；
• 易讀LCD顯示屏，人性化顯示界面，操作簡單、快捷；
• 倒計時功能，試劑與樣品反應時間*性，確保測量精確度；
• 操作簡單，出廠前內(nèi)置標準曲線標定，確保儀器性能；
• 高精度測量結(jié)果，光源防塵測量系統(tǒng)，自動關(guān)機節(jié)電模式
• 優(yōu)良防水性能，適用于實驗室和現(xiàn)場快速樣品分析測量。

參數(shù)：

測量范圍：0.00 to 2.00 mg/ L（ppm）SiO2
解 析 度：0.01 mg/L（ppm）
測量精度：讀數(shù)±5% ± 0.03 mg/L @ 25°C

測量方法：參照ASTM D859標準雜多藍方法
光學系統(tǒng)：定制接收器暨光源系統(tǒng)

電源模式：1 x 1.5V 電池，在測量模式下，10分鐘不用后自動關(guān)機 
使用環(huán)境：0 to 50°C（32 to 122°F），RH max 95%，無冷凝 
尺寸重量：主機尺寸：81.5 x 61 x 37.5 mm，主機重量：64g