元件型氣態除粉裝置TU-KN100大成技研TAISEI

元件型氣態除粉裝置TU-KN100大成技研TAISEI

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TU-4100/J，TU-5100/J，TU-6100/J

產品介紹

大成技研株式會社提供的“氣體粉末去除裝置”主要去除半導體、液晶制造設備（離子注入、CVD、蝕刻等）中排出的氣體反應生成物（微細粉末）。

特別是，通過旋轉渦流吸附和高性能磁性元件，可以全部排除離子注入和CVD設備中產生的1μm以下的反應產物。該裝置在元件內幾乎沒有壓力損失，可用于真空泵的前級和后級，是一種創新的粉末捕集器，可以輕松處理現有過濾器無法去除的細粉末。它有望顯著減少維護工時并提高生產率。

氣態除粉裝置“Torapack”有元件型、旋流型、組合型三種。我們還有一個“Torapack 柜”，可以最佳地存放“Torapack”

元素類型

捕獲從元件表面到深層的反應產物（粉末）。它使用“Trapac Element”，可以收集重量超過其自身重量 10 倍的粉末。

旋流式

它安裝在漩渦結構（漩渦處理板）內部。“渦流元件”用于在朝向中心的旋流中反復碰撞和吸附廢氣中的反應產物。

組合型

通過在多層中使用“Trapac Element”和“Uzu Element”，我們認識到這兩種類型的元素的好處。

TRAPPACK（元素類型）

特征

去除細小反應產物（細粉）

單元密度低，網格空隙大

粉末分層在元件的表面和內部。

主要用途

注入

蝕刻

TRAPPACK（Uzu型）

這是一種氣體除粉裝置，是 Trapac 的進一步發展，配備了漩渦型元件。

特征

由于螺旋結構，粉末不會長時間經歷壓力損失

幾乎所有粉末都被渦流數和渦流螺距的組合所排除。

粉末分層在安裝的渦流元件的表面上。

TRAPPACK（組合型）

Trapac進一步進化的氣態除粉裝置，配備組合型元件（渦流型+元件型）。

特征

去除細小反應產物（細粉）

單元密度低，網格空隙大

粉末在螺旋和元件部分分層。

主要用途：CVD、蝕刻