模塊Siemens 505-7340大量庫存

理機（WP51）既可作為操作員站使用也可作為工程師站使用

*過程操作員通過WP可以調用過程顯示畫面，觀察過程回路的參數、趨勢和報警，實現對過程的操作和參數的調整；

*過程工程師 通過WP可以組態過程顯示畫面和過程控制數據庫，進行其他各種組態工作；軟件工程師通過WP可以進入軟件開發環境，編寫、調試和執行用戶的應用程序；

*系統維護人員通過WP可以觀察到系統各個設備的工作狀態，對這些設備進行診斷操作；

*工廠管理人員通過WP可以運行生產管理方面的軟件。

*組合鍵盤 (操作員鍵盤)

每個操作臺可最多帶二個組合鍵盤, 每個組合鍵盤最多可裝三塊告示小鍵板,二個組合鍵盤最多只能有一個數字小鍵板。

告示小鍵板 -- 它具有用戶可自定義的插片(插片上可標該鍵的功能)和供全部16個鍵用的發光二極管(LED)。這是一個16個 LED 鍵開關的陣列,每個LED 可在操作站處理機軟件的控制下,按過程的狀態呈現ON(閃亮),OFF(熄滅),或者閃爍發光。這些 LED 與基本單元上的音響告示器連用,可產生提醒操作員把注意力轉向系統的某些特殊區域上去的效果。與每一 LED 相關的聚酯薄膜鍵開關可被用于請求預先組態好的畫面或者專門的系統功能。

數字小鍵板 -- 它適于將數字數據輸入系統,其功能與字母數字鍵盤上的數字輸入小鍵盤(帶光標控制)相同,它包括若干數字輸入鍵, 一個 ENTER (鍵入)鍵和一個帶 LED 狀態燈的數字 LOCK (閉鎖)鍵。

*操作員處理機WP51F主要性能指標

CPU： Ultra SPARC IIi 64位字長 RISC技術 650MHZ主頻

內存： 512MB（可擴展至2GB） 硬盤容量：80GB（可擴展至320GB）

CRT尺寸：21”（支持雙CRT） 分辨率： 1600*1280

模塊Siemens 505-7340大量庫存

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硅晶片研磨分有單晶底襯研磨和底襯雙面研磨兩種，今天將介紹華茂歐特總線閥島在單晶底襯研磨設備中的應用。

單晶底襯研磨是指對單晶襯底材料進行研磨加工的過程，目的是去除單晶襯底表面的不平整、缺陷和雜質，以獲得高度平整、光滑的表面。在半導體材料制造中，單晶襯底是制造芯片的基礎材料，其表面質量對后續工藝和最終芯片的性能有著至關重要的影響。

總線閥島在設備中扮演著“搬運工”的角色，研磨前期，控制器使用西門子S7-1200，通過Profinet總線協議與總線閥島建立通訊連接，然后控制電磁閥，從而實現吸盤對硅晶片的拿取，最終將硅晶片精準送到待研磨區域。研磨工作完成后，則將成品從工位中取出。其中給吸盤定位的正是多個磁性開關，而在AU7 1123系列總線閥島中帶有16DI，可用于接入限位開關。并帶有16組傳感器供電電源，為此也解決了傳感器供電問題。