X射線光電子能譜儀 -XPS
廠家型號：賽默飛 Escalab250Xi
技術參數：
ESCALAB 250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能。
1. X射線源靶：單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶；分析區域：20μm~900um之間連續可調；靈敏度：1*106 cps；成像空間分辨率：小于3μm 。
2. 真空系統：樣品分析室（SAC）：小于5.0×10-10 mbar（壓強）；樣品處理室（STC）：小于7.0×10-9 mbar（壓強）。
3. 離子槍：離子源：Ar ；束流：6μA（）at 3keV 。
4. 光源：He紫外光源。
應用范圍：
在金屬、玻璃、高分子、半導體、納米材料、生物材料以及催化等領域有廣泛應用。
1.鑒別樣品表面的元素種類、化學價態及相對含量；
2.深度剖析XPS,結合離子刻蝕技術對樣品（如薄膜等）進行成分深度分布分析；
3.XPS成像，可對元素或化學態進行表面分布分析；
4.利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區表面信息。
表征項目：
XPS常規、價帶譜VB-XPS、功函數UPS、元素的俄歇譜表征AES，XPS深度蝕刻、微區成像。
樣品要求：
1.元素含量不低于1% ；
2.粉末樣品≥10mg ；液體樣≥0.5ml ;塊狀樣：長寬厚 5*5*3mm 。
