如何對一體化溫度變送器進行維護

我們在對一體化溫度變送器進行維護的時候一定要做到以下幾點，不可胡亂進行
1污染情況分析
碳酸鈣垢：
碳酸鈣垢是一種礦物結垢。當阻垢劑/分散劑添加系統出現故障時，或是加酸pH調節系統出故障而引起給水pH增高時，碳酸鈣垢有可能沉積出來。盡早地檢測碳酸鈣垢，對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的，早期檢測出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至3～5，運行1～2小時的方法去除。對于沉積時間長的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。
硫酸鈣、*、硫酸鍶垢：
硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統出現故障或加硫酸調節pH時沉積出來。溫度變送器盡早地檢測硫酸鹽垢對于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。*和硫酸鍶垢較難去除，因為它們幾乎在所有的清洗溶液中難以溶解，所以，應加以特別的注意以防止此類結垢的生成。
磷酸鈣垢：
磷酸鈣垢在有高含磷量的市政廢水和污染中是較為常見的。通常這種垢可用酸性清洗液去除。
金屬氧化物/氫氧化物污染：
典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳、銅、鋁等。這種垢的形成導因可能是裝置管路、容器(罐/槽)的腐蝕產物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預處理過濾系統中使用鐵或鋁助凝劑所致。
聚合硅垢：
硅凝膠層垢由溶解性硅的過飽和態及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的是，一體化溫度變送器這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可采用傳統的化學清洗方法。
膠體污染：
膠體是懸浮在水中的無機物或是有機與無機混合物的顆粒，它不會由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個或多個主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機物。
非溶性的天然有機物污染(NOM)
非溶性天然有機物污染(NOM—NaturalOrganicMatter)通常是由地表水或深井水中的營養物的分解而導致的。有機污染的化學機理很復雜，主要的有機組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用產生，漸漸地結成凝膠或塊狀的污染過程就會開始。
微生物沉積：
有機沉積物是由細菌粘泥、真菌、霉菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其是在給水通路被*堵塞的情況下。給水通路堵塞會使清潔的進水難以充分均勻的進入膜元件內。為抑制這種沉積物的進一步生長，重要的是不僅要清潔和維護RO系統，同時還要清潔預處理、管道及端頭等。
2清洗液的選擇
1、化學清洗藥劑的選擇和使用準則
a)選用的化學藥劑，首先要確保其已由化學供應商認定并符合用于膜元件的要求。藥劑供應商的指導/建議不應與此技術服務公告中推薦的清洗參數和限定的化學藥劑種類相沖突；
b)采用組合式方法完成清洗工作，包括適宜的清洗pH、溫度及接觸時間等參數，這將會有利于增強清洗效果；
c)在推薦的*溫度下進行清洗，以求達到的清洗效率和延長膜元件壽命的效果；
d)謹慎地由低至高調節pH值范圍，可延長膜元件的使用壽命。保守的pH范圍是4～10，強烈的pH范圍為2～12；
e)典型地、zui有效的清洗方法是從低pH至高pH溶液進行清洗。對油污染膜元件的清洗不能從低pH值開始，因為油在低pH時會固化；
f)清洗和沖洗流向應保持相同的方向；
g)當清洗多段反滲透裝置時，zui有效的清洗方法分段清洗，這樣可控制*清洗流速和清洗液濃度，避免前段的污染物進入下游膜元件；
h)用較高pH產品水沖洗洗滌劑可減少泡沫的產生；
i)如果系統已發生生物污染，就要考慮在清洗之后，加入一個殺菌劑化學清洗步驟。殺菌劑必須可在清洗后立即進行，也可在運行期間定期進行(如一星期一次)連續加入一定的劑量。必須確認所使用的殺菌劑與膜元件相容，不會帶來任何對人的健康有害的風險，并能有效地控制生物活性，且成本低；
j)為保證安全，溶解化學藥品時，切記要慢慢地將化學藥劑加入充足的水中并同時進行攪拌；
k)為保證安全，在接觸化學藥品操作時，必要時戴上安全眼鏡，穿好*裝；
l)從安全方面考慮，不能將酸與苛性(腐蝕性)物質混合。在要使用下一種溶液之前，從RO系統中*沖洗干凈滯留的前一種化學清洗溶液。
膜元件清洗zui大pH和溫度極限——表明了對特定膜元件的zui大pH和溫度極限值，一體化溫度變送器超出這一限制會造成不可恢復的膜元件損壞。建議的zui小溫度極限是21℃，但在較高溫度下清洗效力和清洗藥劑的溶解性會有明顯改善。 
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