一、工作原理：

1.1 沸點隨著氣壓的下降而降低。水的沸點在負壓下顯著降低，在氣壓降至-0.089Mpa時，理論沸點可以降至至45℃。在負壓環境下，水分更易于氣化。

1.2 兩層單控真空烤爐在常壓下加熱一段時間后電池或極片中的水分轉化為水蒸氣；水分蒸發后抽真空可以將水蒸氣抽出；充氮氣破真空，保持干燥環境。實際的烘烤過程中根據不同的工藝以上三個步驟先后各不相同，一般都要多次循環。

二、兩層單控真空烤爐技術參數

型號：HE-ZK-2

1、內尺寸：700(寬)×800(深)×380(高)mm；（2箱式）

2、外尺寸約：980(寬)×1100(深)×1750(高)mm以實物為準；

3、每箱內分二層，底起50mmdi一層，配不銹鋼網板二個，可活動抽出；

4、內材質為：304#不銹鋼工業板,厚4.0mm，加強處理，抽真空不變形；

5、外材質為：冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理；

6、保溫材質為：耐高溫巖棉，保溫效果好；

7、密封材質為：耐高溫硅膠條；

8、安裝活動腳輪及可調固定腳座，可任意推動；

9、箱體結構為分體式，左部分為上、下產品箱，右部分真空泵；

三、控溫系統：

1、溫度控制為PID方式數顯儀表（中國臺灣臺松儀表），單點式控溫，可自動演算，PV/SV同時顯示，按鍵設定；

2、計時器設定， 1秒－9999時（可選擇設定小時、分鐘、秒）溫到計時，時間至切斷加熱電流 (報警裝置)

3、感溫線（K）型；

4、輸出為3-32V；

5、電流控制器為：固態繼電器SSR無接點；

6、升溫速率:RT－250℃約45分鐘；

7、采用三面加熱，熱輻射對流方式，發熱管安裝于內箱外壁左、右、底三面；

8、加熱元件為：不銹鋼高溫發熱管；

9、溫度范圍：常溫+30至250℃之間；

10、控制精度±2.0℃；

11、顯示精度1.0℃；

12、箱內溫度分布均勻度±5℃%（根據客戶要求做成單開門，溫度均勻度進一步改善）.

13、每箱獨立控制。

14、每層箱子安裝3根測試線供客戶測試溫度使用

四、真空系統

1、本機采用高密度性的硅膠密封條，進行門口處密封；

2、機臺采用指針式真空表，顯示即時真空度；

3、機臺真空度范圍：0MPa至-0.1MPa，真空度：≤133P；

4、真空控制方式：手動控制，啟動、停止、解壓；

5、8升直連式真空泵（客戶自配）.

五、充氮氣裝置

1、調壓閥：控制氮氣壓力，正常使用下氮氣壓力調為2.5公斤左右；

2、面板流量計：控制氮氣進入箱內的大小，量程為10L/min-60Lmin；

3、氮氣管道進入到箱內正后面，調壓閥處預留8mm快插氣管接口；

4、注：氮氣由用戶自備。