低溫恒溫槽主要作用于對半導體制造裝置發熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。對激光裝置發熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
低溫恒溫槽在技術上已經在上具有很高的水準，其中特別是在壓縮機的技術上，已經內具有水平，低溫恒溫槽采用的是壓縮機制冷機組，有很好的過熱保護裝置，對于電流過大，系統過熱都有著多重的保護，低溫恒溫槽可以采用多角度多方式的將低溫恒溫的液體引出保留在第二溫度場，可以方便第二現場的使用，低溫恒溫槽采用的是數字模擬電路設計，智能pid控制器，溫度數顯一起顯示。
低溫恒溫槽有什么優點？
1、采用風冷式全封閉壓縮機制冷，具有制冷速度快、噪音低等優點。
2、制冷系統具有過熱、過電流多重保護裝置。
3、溫度微機智能控制、操作簡單、溫度穩定性好、有上下限溫度報警、PID自動控制。
4、采用大視窗藍色背光LCD顯示，讀數直觀，動行狀態指示明顯。
5、智能微機可修正溫度測量值偏差，使數顯分辨率達到0.001℃。
6、槽內采用自溢式循環，保證工作槽的溫度穩定性和均勻性。
7、特殊用戶PID可自調。
8、有內、外循環，外循環時可將槽內恒溫液體外引，可建立第二恒溫場，還可以作為冷源（熱源）把槽內液體外引，可以降低（升高）槽外部實驗容器的溫度，擴展使用范圍。
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