我公司能夠提供下列服務：
電子束曝光：制備光刻膠圖像作為掩膜，最小可以制備線寬為7nm的圖像；
紫外曝光：可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜，最小線條為1um；
牛津深硅刻蝕，深寬比至少可以達到10:1，可以把250um的硅片刻蝕穿透，且側壁陡直光滑、不長草；
德國 ICP等離子刻蝕，可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料；
測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機（切割硅片、玻璃、藍寶石等）等
歡迎新老客戶聯系咨詢！
上海續波光電技術有限公司是一家專業從事高性能薄膜沉積及處理設備、光電材料、光學軟件等產品進口的技術貿易服務型公司，公司至今已與歐美、日本等國家的十余家企業建立了戰略合作關系；目前服務于國內從事微電子、半導體、光學、納米技術等領域的研究所和大學。主要產品包括：濺射、蒸發鍍膜儀、離子減薄儀、刻蝕機、等離子處理設備、CVD金剛石沉積設備、激光輔助化學束沉積設備，紅外窗口材料、各種功能CVD金剛石產品，光學設計、激光仿真、BSDF/BRDF測量儀、電磁場模擬仿真及測量儀器等模擬設計軟件等。
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電子束曝光：制備光刻膠圖像作為掩膜，最小可以制備線寬為7nm的圖像；
紫外曝光：可以制備不同厚度的光刻膠圖像作為掩膜，最小線條為1um；
牛津深硅刻蝕，深寬比至少可以達到10:1，可以把250um的硅片刻蝕穿透，且側壁陡直光滑、不長草；
德國 ICP等離子刻蝕，可以刻蝕各種金屬、氧化物、半導體等材料；
測試SEM/EDS、臺階儀、橢偏儀器、安捷倫半導體分析儀、AFM、XPS以及劃片機（切割硅片、玻璃、藍寶石等）等
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| 產品名稱 | 參考價 | 地區 | 公司名稱 | 更新時間 | |
|---|---|---|---|---|---|
| 2101C型離子減薄儀 | 面議 | 武漢市 | 武漢吉普電氣有限公司 | 2025-03-10 | 在線詢價 |
| Leica EM RES102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 上海 | 圓派科學儀器（上海）有限公司 | 2025-01-13 | 在線詢價 |
| Leica EM Res102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 深圳市 | 深圳市新則興科技有限公司 | 2024-06-03 | 在線詢價 |
| 精密離子減薄儀 | 面議 | 上海勞瑞儀器設備有限公司 | 2024-05-21 | 在線詢價 | |
| Leica EM RES102 多功能離子減薄儀 | 面議 | 圓派科學儀器（上海）有限公司 | 2023-07-26 | 在線詢價 | |
| TEM Mill精密離子減薄儀 | 面議 | 深圳市 | 深圳市順心科技有限公司 | 2023-07-18 | 在線詢價 |
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