摘要分光橢偏儀SEMILAB在線光譜橢偏儀SE-3000在線光譜橢偏儀SE-3000,在線光譜橢偏儀μSE-2500,分光橢偏儀SE-2100 (旋轉補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉補償器型),分光橢偏儀SE-2000 (旋轉補償器型),激光橢圓儀LE-510...

摘要BX-G105教學激光橢偏儀是基于消光法（或稱“零橢偏”）測量原理，針對納米薄膜厚度測量領域推出的一款自動測量型教學儀器。BX-G105儀器適用于納米薄膜的厚度測量，以及納米薄膜的厚度和折射率同時測量。教學激光橢偏儀還可用于同時測量塊狀材料（如，金屬、半導體、介質）的...

摘要BX-G104納米光伏專用激光橢偏儀針對光伏太陽能電池推出的專用型多入射角激光橢偏儀。BX-G104用于測量絨面單晶硅或多晶硅太陽電池表面減反膜鍍層的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可測量光滑平面材料上的單層或多層納米薄膜的膜層厚度，以及在632.8nm下折射...

摘要BX-G103激光橢偏儀可在單入射角度或多入射角度下對樣品進行準確測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數k；也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數k；亦可用于實時測量納米薄膜動態生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數k。多入射角度設計...

摘要BX-G101高精度靈敏光譜橢偏儀針對科研和工業環境中薄膜測量推出的高精度快速攝譜型光譜橢偏儀，波長范圍覆蓋紫外、可見到紅外。 光譜橢偏儀基于高靈敏度光譜探測單元和光譜橢偏儀分析軟件，用于測量單層和多層納米薄膜的層構參數（如，厚度）和物理參數（如，折射率n、消光系數k...

摘要 全光譜橢偏儀SE950,適用于各種功能材料的光學常數測量和光譜特性分析...

摘要上海中晨數字技術設備有限公司具有多年的定制加工經驗，JBG2021-W36自動橢偏儀采用進口橢圓偏光關鍵部件，將試驗室中的設備創新地集成為自動運作且可以和生產線無縫銜接的在線油膜重量和厚度測量儀。自JBG07型開始，歷經多年持續不斷地迭代更新，現推出新型的JBG202...

摘要 自JBG07型開始，歷經多年持續不斷地迭代更新，現推出新型的JBG2021-W72自動橢偏儀。較前期型號，更為緊湊，布局合理，5軸機械手臂非常靈活。大批量測試大程度減少人員勞動強度，提升效率，減小誤差。

摘要 自JBG07型開始，歷經多年持續不斷地迭代更新，現推出新型的JBG2021-W6自動橢偏儀。較前期型號，更為緊湊，布局合理。JBG2021-W6自動橢偏儀以光譜型橢偏儀薄膜厚度測量為技術基礎，配合油膜清除系統，實現鍍錫（鉻）板表面油膜重量的測量。

摘要 全自動化&高集成度&可視化光斑操作簡單，測試快速，為一般操作工人設計一鍵式全自動快速橢偏儀 Auto SE——新型的全自動薄膜測量分析工具。采用工業化設計，操作簡單，可在幾秒鐘內完成全自動測量和分析，并輸出分析報告。是用于快速薄膜測量和器件質量控制理想的解決方案。

摘要 Smart SE智能型多功能橢偏儀是一款針對單層和多層薄膜進行簡單，快速，精確表征和分析的工具。多功能性設計，配置靈活，具備多角度測量能力，可方便實現在線與離線配置切換。

摘要 Film Sense FS-1™多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現快速和可靠地薄膜測量。大多數厚度 0–1000 nm 的透明薄膜只需要簡單的 1 秒測量，就可以獲得非常精密和準確的數據。

摘要 SE-VE光譜橢偏儀 本設備基于單旋轉補償器調制技術一次性獲取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光譜，可實現基底上單層到多層薄膜的膜厚、光學常數的快速分析表征。

摘要 激光橢偏儀 SE 400adv 測量透明薄膜的厚度和折射率指數，具有測量速度、亞埃級別的厚度精度和折射率測定的精度。多角度測量允許使用激光橢偏儀 SE 400adv 表征吸收膜特征。

摘要 光譜橢偏儀 SENpro 具有操作簡單，測量速度快，能對不同入射角的橢偏測量數據進行組合分析等特點。光譜范圍為 370 到 1050 nm。SENpro 的光譜范圍與精密的 SpectraRay/4 軟件相結合，可輕易地確定單層膜和復合層疊膜的厚度和折射率。

摘要 Innovative˙Powerful˙Affordable設計創新˙功能強大˙經濟實惠FilmSenseFS-1多波長橢偏儀采用壽命長LED光源和非移動式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現快速和可靠地薄膜測量

摘要 FilmSense新一代多波長橢偏儀系統現已問世

摘要 Radiation 全光譜橢偏儀

摘要 SE500橢偏儀薄膜測量薄膜材料的厚度、NK性能250-1700nm產品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要 SE300橢偏儀400nm到1000nm測量薄膜材料厚度產品簡介SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要 SE200BA-M300橢偏儀測量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析設備產品簡介橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要全自動光譜型橢偏儀儀器介紹： UVISEL2是一款革新的全自動光譜型橢偏儀。繼承并發展了經典機型UVISEL的高準確性、高靈敏度和高穩定性等技術特點的同時，配備革新的可視系統，多達8個尺寸微光斑選項，最小達3585m2，適用于所有薄膜材料研究領域。是目前市場...

摘要 用于橢偏儀或其它光譜儀等設備。

摘要 太陽能電池專用橢偏儀

摘要 多角度激光橢偏儀(PH-LE型)專門針對晶硅太陽能電池絨面上的減反膜測量，能夠測量薄膜厚度及其光學常數，使用632.8nm波長氦氖激光器，具有的精確度和準確度

摘要 光譜橢偏儀(PH-SE型)針對太陽能電池應用，可測量多晶硅/單晶硅絨面表面單層（二層或多層）減反射膜、和玻璃/有機基底上的薄膜太陽能電池

摘要 簡要描述：EMPro是針對研發和質量控制領域推出的型多入射角激光橢偏儀。

摘要 簡要描述：穆勒矩陣橢偏儀

摘要 簡要描述：SE-VM 是一款高精度快速測量光譜橢偏儀。可通過橢偏參數、 透射/反射率等參數的測量，快速實現光學參數薄膜和納米結構的表征分析，適用于薄膜材料的快速測量表征。

摘要 簡要描述：SE-L 是一款全自動高精度光譜橢偏儀，集眾多科技技術，采用行業前沿創新技術，配置全自動測量模塊。

摘要 簡要描述：SE-Mapping 光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測量光譜橢偏儀。

摘要 簡要描述：SE-PV 是一款光伏行業領域專用型光譜橢偏儀，針對光伏行業絨面單晶硅或多晶硅太陽能電池表面減反膜測量定制開發，快速實現薄膜物性表征分析。

摘要 簡要描述：SE-VE 是一款、快速測量光譜橢偏儀，緊湊集成設計，使用簡便，可一鍵快速測量表征各式光學薄膜膜厚以及光學常數等信息。

摘要 UVISEL 研究級經典型橢偏儀

摘要產品詳情簡介儀器簡介：UVISEL2是一款革新的全自動光譜型橢偏儀。繼承并發展了經典機型UVISEL的高準確性、高靈敏度和高穩定性等技術特點的同時，配備革新的可視系統，多達8個尺寸微光斑選項，最小達3585m2，適用于所有薄膜材料研究領域。是目前市場上無二的機型。 詳...

摘要 Gaertner Stokes Waferskan橢偏儀LSE-WS，Gaertner stokes waferskan™ ellipsometer LSE-WS

摘要 Gaertner stokes 微點橢偏儀LSE-MS，Gaertner stokes microspot ellipsometer LSE-MS

摘要 橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學常數以及材料微結構的光學測量儀器

摘要 通過橢偏參數、透射/反射等參數測量，實現各種單層到多層的各向同性/各向異性薄膜膜厚、光學常數快速表征

摘要 ME-L 是一款科研級全自動高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了頤光科研團隊在橢偏技術多年的投入，其采用行業前沿的創新技術，包括消色差補償器、雙旋轉補償器同步控制、穆勒矩陣數據分析等。

摘要 圖片簡介SE500橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要 圖片簡介SE300橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要 圖片簡介橢偏儀——SE200BA-M300橢偏儀是一種利用光的偏振態變化來進行薄膜性質表征的儀器，主要用來測量薄膜材料的厚度、NK參數等性質

摘要橢偏儀測量介電常數GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻（包括米波波長在內）下電容率和介質損耗因數的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數和介質損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久電...

摘要靜態介電常數橢偏儀GBT 1409-2006測量電氣絕緣材料在工頻、音頻、高頻（包括米波波長在內）下電容率和介質損耗因數的推薦方法GB/T1693-2007 硫化橡膠 介電常數和介質損耗角正切值的測定方法 ASTM D150/IEC 60250固體電絕緣材料的(恒久電...