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ETD-200小型金離子濺射儀特點(diǎn):
靶（上部電極）：材料：金，
直徑：64mm，厚度：0.12mm(大約)
真空室：直徑：160mm，高：120mm
樣品臺(tái)（下部電極）：濺射面積：直徑：64mm，zui大放置樣品數(shù)量：16個(gè)
離子電流表：zui大電流：100mA
定時(shí)器：zui長(zhǎng)時(shí)間：900S
zui高電壓： -1600V
電源開(kāi)關(guān)
機(jī)械泵: 2升/每秒
可選：真空控制針閥
靶材可按用戶要求加工制作
相關(guān)詞:離子濺射儀;離子濺射
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