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目錄:濟南微納顆粒儀器股份有限公司>>圖像粒度儀>> Winner99E顯微顆粒粒形粒貌圖像分析儀
| 產地 | 國產 | 加工定制 | 否 |
|---|---|---|---|
| 適用行業 | 其他 | 顯示方式 | 其他 |
| 執行質量標準 | 美標 |
顯微顆粒粒形粒貌圖像分析儀 性能特點：
直觀反映顆粒形貌 將顆粒的表面形貌直接反映到計算機屏幕，用戶可以直觀且全局了解顆粒的表面及形狀屬性；
有效拼接多幅圖像 將選取不同視場拍攝的多幅顆粒圖像拼接成一幅，使參與分析的顆粒數量更多，測試結果更具代表性；
自動分割粘連顆粒 采用更先進的顆粒識別算法，對各種形狀的粘連顆粒都能自動分割，顯著提高粘連顆粒分割準確率，減少人為參與，有效縮短圖像處理時間；
自適應二值化功能 采用一種自適應二值化功能，使其進行圖像二值化處理時不受拍攝光線的影響，避免了因光線不均勻等因素而導致顆粒信息丟失的情況，為后續處理的準確奠定基礎；
自動處理顆粒圖像 顆粒圖像分析軟件含有自動處理工具集，集成了二值化、消除邊界不完整顆粒、消除雜點、填充空洞、平滑邊緣、分割粘連顆粒、計算顆粒參數等功能的自動操作，一鍵即可完成顆粒圖像處理到分析結果的生成等全部過程，操作簡便且結果可靠；
自由切換粒徑單位 標尺選取支持多種長度單位、可在納米、微米和毫米之間自由切換，便于用戶對通過電鏡等其他方式獲取的顆粒圖片實現進一步處理；
快速處理特殊形狀顆粒 對于球形顆粒，采用***處理算法，對原始圖片無需進行任何處理而直接分析顆粒粒徑信息，即使顆粒顆粒之間相互粘連或重疊也不會影響分析結果，提高球形顆粒的分析效率。
顯微顆粒粒形粒貌圖像分析儀 技術參數：
| 規格型號 | Winner99E | |
| 執行標準 | ISO13322-1: 2004; GB/T21649.1-2008 | |
| 顯微系統 | 物鏡 | 4X、10X、40X、60X、100X（油）長距消色差（平場）物鏡組 |
| 目鏡 | 10X、16X 大視野攝像目鏡 | |
| 載物臺 | 手動三維機械式載物臺，尺寸：185mm×140mm， 移動范圍：50mm×75mm，粗微同軸調焦， 微動格值：2μm,帶鎖緊和限位裝置 | |
| 光源 | 底部透射光源，鹵素燈和LED光源（可選）,亮度可調；可選頂部金相落射式光源（帶起偏振器） | |
| 總放大倍數 | 4倍——5000倍 | |
| 攝像系統 | 最高分辨率 | 2048×1536 |
| 像素尺寸 | 3.2μm×3.2μm | |
| 成像元件 | 1/2英寸 CMOS芯片 | |
| 幀率 | 6fps@2048×1536 / 10fps@1600×1200 / 15fps@1280×1024 / 30fps@640×480 | |
| 最高清晰度 | >1000line | |
| 信噪比 | 小于42dB | |
| 敏感度 | 1.0V@550nm/lux/S | |
| 輸出方式 | USB2.0 | |
| 實際觀測范圍 | 1-6000μm | |
| 軟件功能 | 圖像采集 | 采集樣品形貌圖像，保存格式為JPG,bmp |
| 圖片處理 | 使用多種畫圖工具對圖片進行比較簡單的處理 | |
| 圖像拼接 | 將多幅圖片進行無縫拼接,在顆粒測試中能夠獲得更多的顆粒數量以提高測試的代表性。同時也可單張分析保存后再進行拼接，進一步提高了結果的準確性。 | |
| 顆粒的自動處理工具集 | 自動消除顆粒粘連、自動消除雜點、自動消除邊界不完整顆粒、自動填補顆粒的空心區域、自動平滑顆粒邊緣等12項自動處理工具。 | |
| 比例尺標定 | 通過國家標準測微尺標定后，每次測試只須選擇與物鏡相對應的比例尺數值即可直接得到顆粒的實際大小數值。 | |
| 單個顆粒數據 | 可在圖片上直接對單個顆粒進行截面積、體積、長徑比等10多項參數的分析。 | |
| 任務管理機制 | 嚴格的任務管理機制，使用戶能夠將所有測試數據井井有條的管理起來。 | |
| 報告輸出 | 將測試結果輸出為報告，并可以自由修改報告樣式。 | |
| 整體分布特征參數 | D10、D50（中位徑）、D90、D100等顆粒分布的特征參數 | |
| 報告參數 | 整體頻率分布累計分布 | 顆粒按數量、體積、面積等分布的頻率分布與累計分布的數據表、曲線圖、柱狀圖等。 |
| 統計平均徑 | Xnl、Xns、Xnv、Xls、Xlv、Xsv等常用的統計平均徑 | |
| 形狀參數 | 長徑比、龐大率、球型度、表面率、比表面積、外接矩形參數等表征顆粒形狀的10多項常用數據 | |
| 個數統計 | 直接得到所觀測的顆粒數量 | |
| 樣品縮略圖 | 可以將樣品彩色或黑白（可選擇）縮略圖顯示到報告中 | |
| 表頭輸入 | 可以將樣品名稱、測試單位、分散介質等多項信息輸入到報告表頭中 | |
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