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光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2是通過(guò)激光散射方式對(duì)曝光工藝中光掩模上的細(xì)小顆粒進(jìn)行檢測(cè)的裝置。可檢測(cè)光掩模圖案面(Pattern Surface)上的zui小粒徑為0.35μm。并且通過(guò)線＆空間1.0?1.5μm的圖案識(shí)別功能，可以把檢測(cè)誤差抑制在zui低限度。

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2特征

• 0.35μm的檢測(cè)靈敏度，90%的檢測(cè)率。
• 操作靈活的菜單便于使用。
• zui多可直接從多級(jí)分類器內(nèi)的光掩模盒中裝載10片光掩模。
• 可直接觀察玻璃(Glass)面和圖案(Pattern)面。
• 便利的數(shù)據(jù)管理便于制做報(bào)告。
• 新信號(hào)處理方式有利于減少檢測(cè)錯(cuò)誤。
• 使用環(huán)境，圖案表面上的污染物的zui小可測(cè)粒徑為0.35μm。
  通過(guò)光掩模寬度1.5μm、線間1.5μm的圖案判別功能，可以把檢測(cè)誤差抑制在zui小限度內(nèi)。 

光掩模(Reticle/Mask)顆粒探測(cè)系統(tǒng) PR-PD2應(yīng)用

在下列工藝中，可以用于細(xì)微異物的檢測(cè)中。

光掩模制造工藝
1)光掩模坯件上的異物檢測(cè)
2)EB中描畫?清洗后的圖案/玻璃面的異物檢測(cè)
3)表膜粘貼后的圖案/玻璃/表膜各面的異物檢測(cè)
4)粘貼前表膜單體的異物檢測(cè)(可選件功能)

曝光工藝
1)光掩模的接收檢査(入庫(kù)檢查)
2)曝光前的光掩模例行程序的異物檢測(cè)(工藝管理) 
3)光掩模的定期異物檢測(cè)(工藝管理)

優(yōu)點(diǎn)

在圖案面，0.35μm的異物檢測(cè)靈敏度
高速過(guò)量地檢測(cè)圖案/玻璃/表膜各面
帶有上下面異物觀察功能(觀察倍率多級(jí)切換) 
可應(yīng)用于各種縮小投影型曝光裝置盒(適用于多級(jí)曝光裝置盒：zui大可達(dá)到10級(jí)) 
各種各樣的檢査條件設(shè)定功能和簡(jiǎn)便的檢測(cè)操作
內(nèi)置數(shù)據(jù)管理功能，可以輸出各種各樣的報(bào)告。
支持GEM通信功能(顧客要求的功能　可選件) 
高可靠性、低運(yùn)營(yíng)成本